CVD
CVD (Chemical Vapour Deposition) betegner en proces hvorved et fast stof udfældes fra en gasblanding som resultat af en kemisk reaktion på et substrat. Reaktionen foregår oftest ved forhøjet temperatur (100-1000° C) og lavt tryk (0,1-100 mbar). CVD processer bruges oftest til at belægge substrater med belægninger der har specielle funktionelle egenskaber der kun vanskeligt ville kunne lade sig gøre på anden vis.
Et eksempel på en CVD-proces er udfældning af tantal fra tantalpentachlorid:
2TaCl5(g) + 5H2(g) → 2Ta(s) + 10HCl(g)
Processen foregår ved 950° C og ca 1 mbar. Resultatet er en ekstremt korrosionsbestandig belægning, på et substrat med mekaniske egenskaber man ønsker.
Se også
 | Spire Denne artikel om kemi er en spire som bør udbygges. Du er velkommen til at hjælpe Wikipedia ved at udvide den. |
Content Disclaimer
Informasi ini disarikan dari Wikipedia dan disajikan kembali untuk tujuan edukasi. Konten tersedia di bawah lisensi CC BY-SA 3.0. Kami tidak bertanggung jawab atas ketidakakuratan data yang bersumber dari kontribusi publik tersebut.
- The information displayed on this website is sourced in part or in whole from Wikipedia and has been adapted for the purpose of restating it. We strive to provide accurate and relevant information, however:
- There is no guarantee of absolute accuracy. Wikipedia is an open, collaborative project that can be edited by anyone, so information is subject to change.
- It is not intended to constitute professional advice. The content displayed is for informational and educational purposes only. For important decisions (e.g., medical, legal, or financial), please consult a professional.
- Content copyright. Wikipedia is licensed under the Creative Commons Attribution-ShareAlike License (CC BY-SA). This means that content may be reused with appropriate attribution and shared under a similar license.
- Responsible use. Any risk arising from the use of information from this website is entirely the responsibility of the user.