ASM (anteriormente conhecida como ASM International, originalmente conhecida como Advanced Semiconductor Materials) é uma empresaholandesa fundada em 1968 com sede em Almere, nos Países Baixos que se especializa em desenvolver e fabricar equipamentos para processamento de bolachas de silício (wafers) na indústria semicondutora.[1]
História
A ASM (Advanced Semiconductor Materials) foi fundada em 1968, no início da indústria semicondutora por Arthur del Prado (1931-2016), que exerceu a função de CEO até 2008. No início dos anos 1970, a ASM entrava como pioneira no mercado de fornos de deposição.[2]
Em 1975, foi fundada a ASMPT em Hong Kong que fabrica equipamentos semicondutores.[3]
Ainda nos anos 1970, ASM America foi fundada nos Estados Unidos sendo o centro para o desenvolvimento da tecnologia de deposição por epitaxia.[4]
No início dos anos 1980, foi fundada a ASM Japan, que se tornou a base para o desenvolvimento de Deposição química em fase vapor realçada por plasma.
Nos meados dos anos 1980, a ASM e a Philips se juntam para desenvolver tecnologias de litografia em uma companhia que hoje é conhecida como ASML.[5]
Equipamentos para processamento por Atomic Layer Deposition (ALD) são os maiores produtos da empresa, sendo responsáveis por mais da metade da receita em 2022. ALD é a mais avançada tecnologia de deposição de filmes ultra finos.[1][12]
Produtos nesta categoria incluem:
EmerALD XP ALD
Pulsar XP ALD
Synergis ALD
Eagle XP8 PEALD
XP8 QCM PEALD
Epitaxy
Equipamentos para processamento de filmes cristalinos de silício por Epitaxia são os segundo maiores produtos em receita, sendo o mercado aquecido por uma maior demanda de clientes produtores de dispositivos lógicos e fundições na medida em que eles desenvolvem nodos cada vez menores.[12][13]
Produtos nesta categoria incluem:
Epsilon 2000 Epitaxy
Intrepid ES Epitaxy
Intrepid ESA Epitaxy
Silicon Carbide Epitaxy
No último trimestre de 2022, a empresa italiana chamada LPE, que desenvolve reatores de epitaxia de SiC e silício, foi aquisitada por €425 milhoes de euros para suprir a crescente demanda da indústria automotiva.[12][11]
Produtos nesta categoria incluem:
PE106A/PE108 SiC
PE208 SiC
PECVD
PECVD se utiliza de plasma para enaltecer deposição química em fase vapor (do inglês Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition - PECVD) para depositar filmes dielétricos (low-k) à relativas baixas temperaturas.[12][14]
Produtos nesta categoria incluem:
Dragon XP8 PECVD
Fornos Verticais
Os Fornos verticais (Vertical Furnaces) realizam uma série de processos térmicos incluindo difusão, oxidação e Deposição química em fase vapor à baixa pressão (Low Pressure Chemical Vapor Deposition - LPCVD).[12]