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10 µm (ou encore 10 000 nm) est la dimension caractéristique d'un procédé de fabrication des semi-conducteurs. Cette technologie a été atteinte par Intel, le principal fabricant de semi-conducteurs dans les années 1971-1972^[1].

Le successeur de ce procédé utilise une largeur de canal de 3 µm.

• CPU Intel 4004 lancé en 1971, premier microprocesseur fabriqué avec ce procédé.
• CPU Intel 8008 lancé en 1972.

• (en) Grant McFarland, Microprocessor Design : A Practical Guide from Design Planning to Manufacturing, McGraw-Hill Publishing Companies, Inc., 2006, 408 p. (ISBN 0071459510, DOI 10.1036/0071459510)

• (en) Interviews de pionniers de l'industrie des semi-conducteurs

v · m Fabrication des dispositifs à semi-conducteurs
10 µm (1971) 3 µm (1975) 1,5 µm (1982) 1 µm (1985) 800 nm (1989) 600 nm (1994) 350 nm (1995) 250 nm (1997) 180 nm (1999) 130 nm (2002) 90 nm (2004) 65 nm (2006) 45 nm (2008) 32 nm (2010) 22 nm (2012) 14 nm (2014) 10 nm (2017) 7 nm (2018) 5 nm (2020) 3 nm (2022)

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